昭和22年02月 電化鍍金工業所として大田区矢口に個人企業として設立
昭和48年01月 電化皮膜工業株式会社に組織変更。資本金10,000千円
昭和54年04月 神奈川県大和市中央工業団地に大和工場開設
平成02年01月 大和工場を分離。資本金10,000千円にて設立
平成04年07月 マグネシウム専用工場として神奈川県大和市に深見工場開設
平成04年09月 Mgdize White(白色系陽極酸化皮膜)開発
平成05年02月 Mgdize BL (黒色系陽極酸化皮膜)開発
平成05年11月 Mgdize Hard (硬質陽極酸化皮膜)開発
平成07年07月 KD 処理 (Mgノン・クロム系化成処理)開発、生産開始
平成08年02月 Mgdize Whiteの改良型Mg・White 開発
平成08年05月 Mg上の無色透明皮膜処理を開発
平成09年12月 SCF(無色透明)処理をSONY殿と世界7カ国に共同出願
平成09年12月 GE (摺動性陽極酸化) 処理法をSONY殿と世界7カ国に共同出願
平成10年12月 大和第二工場を大和市中央工業団地内に開設
平成11年06月 NEDO 3ヵ年開始;自動車向け鋳鍛工部品用Mgの開発
平成11年12月 (株)フジクラ殿と抗菌性アルマイト実施権契約を結ぶ
平成12年04月 宇部興産株式会社殿とUBE-5 法実施権契約結ぶ
平成12年06月 NDU処理(低不純物溶出処理)開発
平成12年07月 大和第二工場にてマグネシウムのバリ取り、仕上げ開始
平成12年11月 大和第二工場にてマグネシウムの機械加工開始
平成14年06月 GD・Coat 処理 (Mg用ノンクロム化成処理) 開発及び生産開始
平成14年06月 GD・Repair処理 (Mg用ノンクロム補修用化成処理法) 開発
平成14年08月 Mg・Light 処理 (金属光沢陽極酸化処理) 生産開始
平成14年12月 GD・Repair処理液販売開始
平成15年06月 Alの結晶模様処理生産準備
平成15年08月 Mgの結晶模様処理開発
平成15年11月 Alの三次元模様処理開発
平成15年12月 Mgの三次元模様処理開発
平成15年12月 中小企業経営革新支援法承認
平成16年03月 中小企業創造的事業活動の促進法の認定
平成16年06月 Al六価クロムフリー化成処理生産開始(ACF)
平成16年06月 Alダイカスト用六価クロムフリー化成処理生産開始(ACF−D300)
平成16年11月 神奈川県工業技術大賞奨励賞受賞
平成16年12月 東急ハンズ殿よりBC(Brillian・Coat)製の名刺入れを発売開始
平成17年05月 IMA国際会議(ドイツ)において弊社開発のMag・Light処理発表
平成18年08月 アルマイト大型ライン大和第二工場へ1部生産開始
平成18年11月 KD処理(マグネシウム部分修正処理)開発、生産開始
平成19年08月 ノンクロム系黒化成処理(KD−BL処理)開発、生産開始
平成19年11月 部分アルマイトによる修正処理法の開発、実施開始
平成20年06月 ノンクロム系高耐食性化成処理(KD−Y処理)開発、生産開始
平成20年07月 ノンクロム系低抵抗性化成処理(KD−W処理)開発、生産開始
平成20年12月 ISO14001認証取得(本社工場、大和第二工場)